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標題: 低于大氣壓的化學氣相沉積-SACVD [打印本頁]
作者: jfkj2020    時間: 2021-1-6 11:11
標題: 低于大氣壓的化學氣相沉積-SACVD
用于制造微電子器件的薄膜都是使用某種沉積技術形成的，該術語是指在基板上形成沉積物。在半導體器件制造中，以下沉積技術（及其常用的縮寫）為：
低壓化學氣相沉積-LPCVD
等離子體增強化學氣相沉積-PECVD
低于大氣壓的化學氣相沉積-SACVD
大氣壓化學氣相沉積-APCVD
原子層沉積-ALD
物理氣相沉積-PVD
超高真空化學氣相沉積-UHV-CVD
類金剛石碳-DLC
商業電影-CF
外延沉積-Epi

薄膜沉積（1月6）.docx

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用于制造微電子器件的薄膜都是使用某種沉積技術形成的，該術語是指在基板上形成沉積物。在半導體器件制造中 ...



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