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離子束輔助蝕刻

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ID:864797 發表于 2021-1-6 11:10 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
在半導體器件的制造中,蝕刻是指將選擇性地從襯底上的薄膜中去除材料的技術(在其表面上有或沒有先有結構),并通過這種去除在襯底上形成該材料的圖案。該圖案由耐蝕刻工藝的掩模限定,該掩模的產生在光刻中詳細描述。一旦放置好掩模,就可以通過濕化學或“干”物理方法蝕刻不受掩模保護的材料。圖1顯示了此過程的示意圖。

半導體蝕刻(1月6).docx

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在半導體器件的制造中,蝕刻是指將選擇性地從襯底上的薄膜中去除材料的技術(在其表面上有或沒有先有結構) ...

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