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等離子體光刻膠去除的主要優點是消除了液體槽和對化學品的操作

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ID:864797 發表于 2021-1-14 10:32 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
同刻蝕一樣，干法等離子體工藝也可用于光刻膠去除。將晶圓放置于反應室中．并通入氧氣。等離子體場把氧氣激發到高能狀態，因而將光刻跤成分氧化為氣體由真空泵從反應室吸走。術語灰化（ashlng〕用來說明那些設計成用來只去除有機殘留物的等離子體工藝。等離子去除需要去除有機和無機兩種殘留物的工藝。在干法去除機中，等離子體由微波，射頻和UV臭氧源共同作用產生。

半導體系列之十步圖形化工藝流程（1月14）.docx

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